Vybavení litografické laboratoře Ceitec VUT

Ukončeno plnění smlouvyDodávkyOtevřené řízení
Otevřít u zadavatele ↗
Lhůta pro nabídky
24. 10. 2014 11:00
Předpokládaná hodnota
–
Obor
–
Uveřejněno
–

Předmět zakázky

"Předmětem této zakázky je vybavení nově budované litografické laboratoře Ceitec VUT. Zakázka bude rozdělena na 2 části, přičemž dodavatel může podat nabídku na libovolnou část zakázky nebo na obě části zakázky současně. část 1 zakázky - Chemické lavice Předmětem této části zakázky je dodávka sedmi specializovaných chemických lavic především pro polovodičové technologické procesy, procesy elektronové a optické litografie, chemického čištění a leptání do Sdílené laboratoře Příprava a charakterizace nanostruktur. Základním požadavkem kladeným na všechny chemické lavice je celková kompatibilita s chemickými procesy definovanými zadavatelem, jejich zabudování a připojení k technickému zázemí (demineralizované vodě, rozvodu dusíku a tlakového vzduchu, chemického a splaškového odpadu). Chemické lavice budou zabudovány do laboratoří s třídou čistoty 100, a proto je požadována plná materiálová kompatibilita s tímto prostředím. část 2 zakázky - Sestava zařízení pro litografickou linku Předmětem této části zakázky zejména dodávka: - expoziční jednotky - zdroje UV záření o výkonu min. 1 000 W včetně optické soustavy s pásmovou propustí v intervalu 250 nm až 450 nm, kontrolní a ovládací jednotky integrovanou do SW. Zadavatel požaduje homogenní osvětlení minimálně po celé ploše 8 palcové waferu. - maskového litografu pro výrobu nano- a mikrostruktur pomocí UV litografie. Zařízení musí být schopno základního difúzního kontaktování křemíkových waferů. - zařízení pro nanášení a vyvolávání především organických vrstev za účelem elektronové a optické litografie.Základní požadavky na dodávku jsou automatizovaný a uživatelsky programovatelný systém nanášení a vyvolávání litografických resistů pro substráty až do velikosti 8“. - litografického stolu za účelem přípravy substrátů zejména pro elektronovou nebo optickou litografii. Základní procesy jsou vypékaní resistů, nanášení resistů a nanášení adhezivních mezivrstev za účelem nanášení pozitivních a negativních resistů pro elektronovou a optickou litografii. Podrobná specifikace jednotlivých částí zakázky je uvedena v zadávací dokumentaci. "

Části zakázky 2

ČástStavLhůtaNabídekSmluvní cena
Sestava zařízení pro litografickou linkuUkončeno plnění smlouvy24. 10. 2014316 mil. Kč
Chemické laviceUkončeno plnění smlouvy24. 10. 201438,2 mil. Kč

Účastníci a nabídky 6

DodavatelNabídková cenaSmluvní cenaVýsledek
SPECION, s.r.o.–16 mil. Kčvybrán
STROZA s.r.o.–8,2 mil. Kčvybrán
EV Group Europe & Asia/Pacific GmbH––
STROZA s.r.o.––
CSVG a.s.––
SPECION, s.r.o.––

Poslední změna 7. 10. 2026 13:44. Rozhodující je vždy znění na profilu zadavatele.