Zařízení pro chemické a termální procesy

"Předmětem této zakázky je dodávka zařízení pro chemické a termální procesy. Zakázka má 2 části: 1) Zařízení pro přípravu tenkých vrstev a struktur v čisté laboratoři 2) Zařízení pro chemické nanášení keramických vrstev z par prekurzorů 1) Zařízení pro přípravu tenkých vrstev a struktur v čisté laboratoři Předmětem zakázky je dodávka technologického zařízení pro vytváření speciálních vrstev zejména na polovodičových waferech chemickou depozicí z plynné fáze a zařízení pro teplotní procesy aplikované na polovodičové struktury na waferech při redukovaném tlaku (low pressure CVD) s přídavkem procesních plynů. Wafery jsou umístěny do horizontálně loženého křemenného reaktoru, kde jsou zpracovávány v dávkách. Teploty reaktoru jsou voleny dle typu procesu a jsou závislé na volbě prekurzorů. U tohoto systému se pohybují přibližně do 600 °C. Zařízení jako celek komunikuje s plynovým hospodářstvím na základě elektroniky. Zařízení je obslouženo jak z hlediska procesů, tak z hlediska bezpečnosti práce s nebezpečnými látkami a procesy pro obsluhu nebezpečné jsou systémem automatizovány. Teplotní systém disponuje vodním chlazením a jsou do něj zařazeny i příruby reaktoru. Celý systém je řízený řídicím počítačem a licencovaným softwarem. 2) Zařízení pro chemické nanášení keramických vrstev z par prekurzorů Předmětem zakázky je kombinované zařízení pro nanášení vícesložkových keramických vrstev z organokovových prekurzorů metodou MOCVD při teplotách do 1100 °C s následným reakčním slinováním s vrstvami nanášenými metodou CVD při 1600 °C. Zařízení je složeno ze dvou jednotek – nízkoteplotní MOCVD jednotky pracující při programovatelné teplotě v rozmezí 20 až 1100 °C a vysokoteplotní slinovací CVD jednotky pracující při programovatelné teplotě v rozmezí 100 až 1600 °C. Obě jednotky musí umožňovat práci za vakua a v řízené atmosféře. Teplota, tlak i složení atmosféry musí být řízené digitálně nejlépe prostřednictvím PC. Podrobná technická specifikace jednotlivých částí zakázky a další požadavky zadavatele jsou uvedeny v zadávací dokumentaci. "