Depoziční zařízení / Deposition device
Masarykova univerzita · RVZ2500080326
ukončenáNadlimitní veřejná zakázkaDodávkyOtevřené řízení
Lhůta pro nabídky
30. 9. 2024 11:00
Předpokládaná hodnota
11 mil. Kč
Obor
Elektrická zařízení
CPV 31711421
Uveřejněno
20. 8. 2024
místo plnění CZ064
Předmět zakázky
Zařízení pro depozici tenkých vrstev magnetronovým naprašováním. Zařízení je určené pro výzkum a vývoj v oblasti přípravy nových materiálů ve formě tenkých vrstev připravených metodou magnetronového naprašováni. / Magnetron sputtering deposition device. The device is used for the research and development of new materials in the form of thin films prepared by magnetron sputtering.
Účastníci a nabídky 1
| Dodavatel | Nabídková cena | Smluvní cena | Výsledek |
|---|---|---|---|
| HVM PLASMA, spol. s r.o. | – | 11 mil. Kč | vybrán |
Poslední změna 7. 10. 2026 13:17. Rozhodující je vždy znění na profilu zadavatele.